Post #4107

삼성전자, 4나노 파운드리에 에스앤에스텍 EUV 블랭크마스크 첫 테스트 (디일렉) 삼성전자가 에스앤에스텍의 극자외선(EUV) 블랭크마스크를 실제 양산 환경인 4나노 파운드리 공정에서 테스트하고 있는 것으로 16일 전해졌다. 에스앤에스텍은 지난 달 양산 라인에서 검증할 EUV 블랭크마스크 샘플 제품 여러 개를 삼성전자에 공급했다. 삼성전자는 4나노 공정 수행 과정에서 보완과 개선 사항을 에스앤에스텍에 공유하며 품질 고도화 작업을 하고 있는 것으로 파악됐다. 그간 삼성전자는 에스앤에스텍의 EUV 블랭크마스크 샘플을 일부 단위 공정이나 연구소 레벨에서 써보며 평가 작업을 거쳐왔다. 양산 라인에 투입한 것은 이번이 처음이다.