Post #26843

СОЗДАНО ОБОРУДОВАНИЕ ДЛЯ ПРОИЗВОДСТВА МИКРОЧИПОВ Российские специалисты разработали первые отечественные кластерные установки плазмохимического травления и осаждения для производства микрочипов с проектными нормами до 65 нм. Оборудование способно обрабатывать кремниевые пластины диаметром до 300 мм, выполняя высокоточные операции, такие как: нанесение тонких изолирующих пленок (оксида и нитрида кремния); плазмохимическое травление для создания наноструктур. Ключевая особенность — работа в вакууме — заготовки для чипов обрабатываются без контакта с воздухом, что предотвращает загрязнение и значительно увеличивает количество успешно произведенных изделий. В Минпромторге подчеркнули, что внедрение такого оборудования позволит модернизировать производство и станет значительным шагом к развитию полного цикла изготовления микроэлектроники в России.